北京科华微电子材料有限公司成立于2004年8月13日，位于北京市顺义区天竺综合保税区,为中美合资企业。公司经营范围为:生产微电子材料、半导体原材料检测、技术开发、销售自产产品。目前经营领域：光刻胶、配套试剂的生产与销售。占地面积21000多平方米，建筑面积9300多平方米，建有高档光刻胶研发实验室和生产基地，其中：生产基地以高档光刻胶的生产为主，产品包括高档g线正胶、i线正胶和TFT-LCD用正胶及相关的配套试剂。该基地已于2009年5月建成投产，其中的高档ｇ线和ｉ线正胶生产线是国内第一个拥有自主知识产权的现代化的500吨/年的光刻胶生产线。公司所处行业为半导体行业，其产品属于特种高分子新材料，一直以来是国家重点支持的项目，现有产品均为国家重点攻关项目，亦是2009年出台的《电子信息产业调整和振兴规划》和《国家科技重大专项“十二五”发展规划战略》中的重点支持项目。
另外，科华微电子的全资子公司-北京科华丰园微电子科技有限公司位于房山区燕山石化工业区的生产基地，于2005年建成投产，以紫外负型光刻胶及配套试剂和宽谱正胶为主，其中负胶生产为百吨级规模，配套试剂为千吨级规模，是国内规模最大的负胶和配套试剂生产基地。

产品展示
紫外负性光刻胶
BN303、BN308、BN310
正胶配套试剂
负胶配套试剂
负胶显影剂
负胶去膜剂
负胶表面处理剂
负胶稀释剂
负胶漂洗剂
紫外正性光刻胶
KMP C7310、KMP C5315、KMP C5215、KMP C5308

发明专利：
ZL200110091156.1

质保体系证书
ISO9000